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半导体废水氨氮超标处理方法(图)

文章出处:网责任编辑:作者:人气:-发表时间:2021-07-31 16:02:00

 

半导体业态势迎来爆发式生产,未来芯片也会迎来长期的发展,而污水处理量也同步增加,大量的氨氮废水需要处理,这个问题是个难题,半导体废水氨氮超标处理方法有哪些呢?

 

 

半导体

 

 

 

常规处理的方法

 

 

1、蒸汽汽提法,蒸氨工艺将焦化工序产生的化工分离废水和剩余氨水进行蒸馏,通过蒸氨处理后,降低其NH3—N含量,为下一步生化处理进行必要的前期处理。

 

 

2、利用微生物的新陈代谢功能,将污水中呈溶解或胶体状态的有机物分解氧化为稳定的无机物质,使污水得到净化,常用的有活性污泥法和生物膜法。

 

 

3、空气吹脱法,吹脱工艺是将废水中的离子态铵(NH4+),通过调节pH值转化为分子态氨,随后被通入的空气或蒸汽吹出。

 

 

 

效率达标方法

 

 

为更好推进芯片发展,对于污水处理一定要有效率!而常规处理后污水一般为100ppm-500ppm之间,当工艺降幅无法达到排放标准时,投加氨氮去除剂是一种效率的方法。

 

 

氨氮去除剂在污水中投加能利用强氧化作用达到分解氨氮,5分钟反应,把污水中的氨氮从水体中快速去除,达标到0.02mg/L~50mg/L是没问题的。

 

 

氨氮去除剂

 

 

 

如需了解更多药剂的投加成本,可点击右上角的“立即咨询

 

 

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